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J-GLOBAL ID：200902213660563011   整理番号：05A0529196

両親媒性ジブロックコポリマー薄膜の光誘起物質移動

Photoinduced Surface Relief Formation in Thin Film of Amphiphilic Liquid Crystalline Diblock Copolymer

著者 (5件)： 森川雄市 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  渡辺一史 (東京工大 資源化研) ,  弥田智一 (東京工大 資源化研) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 85th  号： 1  ページ： 489  発行年： 2005年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アゾベンゼン部位とポリエチレンオキシド(PEO)部位とを有す...

シソーラス用語： *ジブロック共重合体 ,...

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分類 (4件)： 高分子の物性一般  (CG02001Z) ,  その他の液晶  (BK03030H) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固体中の拡散一般  (BL06021L)

物質索引 (2件)： 5CB ,  4-[11-(メタクリロイルオキシ)ウンデシルオキシ]-4′-ブチルアゾベンゼン

タイトルに関連する用語 (5件)： 両親媒性 ,  ジブロックコポリマー ,  薄膜 ,  光誘起 ,  物質移動