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J-GLOBAL ID：200902214516826250   整理番号：05A0941910

ポリシロキサンを有する光応答性ブロック共重合体単分子膜の光誘起形態変化

著者 (8件)： 青木健二 (名大院) ,  門田総平 (名大院) ,  門田総平 (JST-CREST) ,  岩田孝文 (名大院) ,  永野修作 (名大院) ,  永野修作 (JST-CREST) ,  関隆広 (名大院) ,  関隆広 (JST-CREST)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 54  号： 2 Disk1  ページ： 1PC101  発行年： 2005年09月05日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ポリジメチルシロキサン ,...

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分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (1件)： メタクリル酸10-[4-(4-ヘキシルフェニルアゾ)フェノキシ]デシル

タイトルに関連する用語 (5件)： ポリシロキサン ,  光応答 ,  ブロック共重合体 ,  単分子膜 ,  光誘起