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J-GLOBAL ID：200902216082195097   整理番号：06A0146184

ナノパルスプラズマの状態評価及びDLC膜合成への応用

Evaluation of Nanopulse Plasma and its Application to DLC Film Deposition

著者 (6件)： 斉藤隆雄 (日本碍子) ,  近藤好正 (日本碍子) ,  近藤好正 (東京工大 大学院) ,  寺沢達矢 (日本碍子) ,  斉藤雅典 (東京工大 大学院) ,  大竹尚登 (東京工大 大学院)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 126  号： 3  ページ： 157-162  発行年： 2006年03月01日 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 静電誘導サイリスタ素子を用いて,パルス幅1μsec以下のナノ...

シソーラス用語： DLC膜 ,...
準シソーラス用語： ナノパルス ,...

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分類 (2件)： プラズマ一般  (BJ02010B) ,  気相めっき  (WC08022K)

引用文献 (14件)：

• (1) J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala, and N. C. Tran : “Plasma source ion-implantation technique for surface modification of materials, J. Appl. Phys., Vol. 62, pp. 4591 (1987)
• (2) X. D. Yang, T. Saito, Y. Nakamura, Y. Kondo, and N. Ohtake : “Mechanical Properties of DLC Films Prepared Inside of Micro-holes by Pulse Plasma CVD”, Abstracts of The 9th Int. Conf. on New Diamond Science and Technology, pp. 55 (2004)
• (3) J. Nishizawa, T. Terasaki, and J. Shibata : “Field-effect Transistor versus Analog Transistor (Static Induction Transistor)”, IEEE Trans., Vol. ED-22, pp. 185-197 (1975-4)
• (4) K. Iida and K. Sakuma : “Nanopulse generator employing a SI thyristor. (IES Circuit)”, Proc. of The 15^th Symposium of Static Induction Devices, ISSN 1340-5853, SSID-02-9, pp. 45-50 (2002) (in Japanese)
• 飯田克二·佐久間健 : 「SIサイリスタによる極短パルス発生回路(IES回路)」,第15回SIデバイスシンポジウム講演論文集,ISSN 1340-5853, SSID-02-9, pp. 45-50 (2002)

タイトルに関連する用語 (4件)： パルスプラズマ ,  状態評価 ,  DLC膜 ,  応用