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J-GLOBAL ID：200902223136150465   整理番号：08A1121057

液中プラズマの気泡の挙動と周辺温度

Behavior of Bubbles and Surrounding Temperature of In-Liquid Plasma

著者 (4件)： 服部吉晃 (愛媛大 大学院理工学研究科) ,  向笠忍 (愛媛大 大学院理工学研究科) ,  野村信福 (愛媛大 大学院理工学研究科) ,  豊田洋通 (愛媛大 大学院理工学研究科)
資料名： Thermal Science and Engineering  (Thermal Science and Engineering)
巻： 16  号： 4  ページ： 131-137  発行年： 2008年10月 
JST資料番号： L1615A  ISSN： 0918-9963  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： n-ドデカン中で異なる容器内圧力や投入電力でマイクロ波プラズマを発生させ,プラズマ発生直後の様子を高速度カメラで観察し,プラズマと同時に生成される気泡内部の圧力の計算を行い,さらに熱電対を用いてプラズマ周辺の温度測定をした。これにより得た主な知見を次に示した。1)容器内圧力が100hPaで発生するプラズマは,それと同時に発生する気泡内で発光強度の強い領域と弱い領域に分かれ,膨張や収縮を繰り返すこと,投入電力を大きくすると,プラズマや気泡が大きく成長し,プラズマや気泡の変化の周期が長くなること,2)容器内圧力が小さいほど気泡膨張の起こる周期が長くなり,電極から離脱するまでの時間も長くなること,3)気泡内部の圧力はプラズマ発生直後に急激に上昇し,その後圧力が低下し容器内圧力になること,このときの気泡内部の圧力の最大値はおよそ200~600hPa程度であること,投入電力を大きくすると最大値は大きくなるが,容器内圧力の影響は小さいこと,4)投入電力を大きくするとプラズマが大きくなるため,プラズマ周辺の温度分布が変化すること,測定される最も高い温度は投入電力に関わらず,容器内圧力での飽和温度に近い温度であること。

シソーラス用語： *プラズマ ,  *液相 ,  マイクロ波 ,  高速度カメラ ,  気泡 ,  温度条件 ,  温度測定 ,  *気泡成長 ,  圧力測定 ,  温度分布 ,  *温度依存性 ,  *相

分類 (2件)： 膜流,液滴,気泡,キャビテーション  (BC02070U) ,  プラズマ装置・核融合装置一般  (BJ02081R)

引用文献 (20件)：

• KAMO, M. Diamond synthesis from gas phase in microwave plasma. J. Cryst. Growth. 1983, 62, 642-644
• WEI, J. Low-Temperature Synthesis of Diamond Films Using Magneto-Microwave Plasma CVD. Jpn. J. Appl. Phys. 1990, 29, L1483-L1485
• YUGO, S. Generation of diamond nuclei by electric field in plasma chemical vapor deposition. Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 1036-1038
• TACHIBANA, T. Diamond films grown by a 60-kW microwave plasma chemical vapor deposition system. Diamond Relat. Mater. 2001, 10, 1569-1572
• QIN, L. C. Growing carbon nanotubes by microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 3437-3439

タイトルに関連する用語 (4件)： 液中プラズマ ,  気泡 ,  挙動 ,  周辺温度