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J-GLOBAL ID：200902223215912184   整理番号：08A0872514

インクジェット析出法により中程度の温度で結晶性酸化セリウム膜とパターンをオンサイト作製

On-Site Fabrication of Crystalline Cerium Oxide Films and Patterns by Ink-Jet Deposition Method at Moderate Temperatures

著者 (6件)： GALLAGE Ruwan (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  MATSUO Atsushi (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  FUJIWARA Takeshi (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  WATANABE Tomoaki (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  MATSUSHITA Nobuhiro (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  YOSHIMURA Masahiro (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 91  号： 7  ページ： 2083-2087  発行年： 2008年07月 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： インクジェット析出法を用いて,中程度の温度(300°C以下)でCeO₂膜とパターンをガラス基板上に作製した。溶液A(硝酸Ce+キレート剤+水)と溶液B(酢酸Ce+エタノール+水)を300°C以下に加熱したガラス基板にインクジェット法で吹き付け,膜とパターンを作製した。X線回折から10nm以下の結晶化したCeO₂の生成が認められ,後熱処理は不要であった。SEM観察から亀裂のない厚さ数百nmの膜が得られた。溶液Bは溶液Aに比べて基板上での液滴の拡がりが容易なため,よりち密な膜が得られた。幅150μm,厚さ250±20nmの亀裂のないパターンも得られた。

シソーラス用語： *酸化セリウム ,  *薄膜 ,  結晶 ,  *パターン形成 ,  *インクジェット印刷 ,  基板 ,  電気装置部品 ,  ガラス ,  表面構造 ,  硝酸塩 ,  セリウム化合物 ,  キレート剤 ,  アミノ酸 ,  窒素複素環化合物 ,  脂肪族アルコール ,  ガラス基板 ,  硝酸セリウム ,  構造

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (3件)： L-プロリン ,  エタノール ,  三酢酸セリウム(III)

タイトルに関連する用語 (5件)： インクジェット ,  析出 ,  結晶性 ,  酸化セリウム ,  作製