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J-GLOBAL ID：200902239693304800   整理番号：09A0352854

後焼成無しで噴霧堆積法により透明なセリア膜を作製

Fabrication of transparent ceria films by spray deposition without post firing

著者 (5件)： GALLAGE Ruwan (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  MATSUO Atsushi (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  WATANABE Tomoaki (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  MATSUSHITA Nobuhiro (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  YOSHIMURA Masahiro (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of Electroceramics  (Journal of Electroceramics)
巻： 22  号： 1/3  ページ： 33-39  発行年： 2009年02月 
JST資料番号： W1123A  ISSN： 1385-3449  CODEN： JOELFJ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 透明なセリア膜を複雑な試薬を用いず,低温(~300°C)で作製する方法について検討した。酢酸セリウムを水/エタノール(70/30)に溶解した0.02M/Lを前駆体溶液とした。基板温度300~400°Cのガラス基板に噴霧した。TG-DTAから分解温度は約280°Cで,結晶化も同時に起こった。結晶子の大きさは5~7nmで,基板温度と共に増加した。膜厚は120~80nmで,基板温度と共に減少した。UV/可視スペクトルから全ての膜が透過率70~85%を示した。光学的バンドギャップは3.06~3.08eVで,800°Cでマグネトロンスパッタリングした膜の3.30eVよりも小さかった。噴霧堆積法による成膜機構を示した。

シソーラス用語： *酸化セリウム ,  基板温度 ,  *噴霧法 ,  *セラミック膜 ,  ナノ結晶 ,  透過率 ,  加熱温度 ,  フォトニックバンドギャップ

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 焼成 ,  噴霧 ,  堆積 ,  セリア ,  作製