文献

J-GLOBAL ID：200902240503305898   整理番号：05A0942729

ブロックコポリマー/液晶ハイブリッド単分子膜の高秩序なナノパターン形成

著者 (5件)： 松下祐 (名大院) ,  永野修作 (名大院) ,  永野修作 (JST-CREST) ,  関隆広 (名大院) ,  関隆広 (JST-CREST)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 54  号： 2 Disk1  ページ： 3PC095  発行年： 2005年09月05日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,...

   このテーマを更に深掘りする（JDreamⅢへ）  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0942729&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Z0703C") }}

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (1件)： 5CB

タイトルに関連する用語 (4件)： ブロックコポリマー ,  液晶 ,  単分子膜 ,  ナノパターン形成