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J-GLOBAL ID：200902250353961819   整理番号：07A1236170

超分子型アゾベンゼンポリマーによる新たな光誘起表面レリーフ形成システムの構築

著者 (6件)： 三井俊 (名大 院) ,  諫山純 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  永野修作 (JST-CREST) ,  関隆広 (名大 院) ,  関隆広 (JST-CREST)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 56  号： 2 Disk1  ページ： 2PA065  発行年： 2007年09月04日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 超分子 ,...
準シソーラス用語： 光橋架け ,...

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分類 (2件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 超分子 ,  アゾベンゼン ,  ポリマー ,  光誘起 ,  表面レリーフ ,  形成システム ,  構築