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J-GLOBAL ID：200902253969293975   整理番号：09A0235058

大気圧マルチガス高純度プラズマ源の開発と応用

著者 (2件)： 宮原秀一 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  沖野晃俊 (東京工大 大学院総合理工学研究科)
資料名： 機能材料  (Function & Materials)
巻： 29  号： 4  ページ： 70-79  発行年： 2009年03月05日 
JST資料番号： Y0021A  ISSN： 0286-4835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： CVDやエッチングをはじめとしたプラズマ気相反応は半導体産業などに広く使用され,現代のIT社会に不可欠な技術となっている。従来,こうしたプラズマ源のほとんどは減圧下で生成されていたが,ここ数年,大気圧プラズマが注目を集めている。しかし,大気圧下ではプラズマ化できるガス種に制限があった。筆者らは,さまざまなガスをプラズマガスとしてプラズマを生成できる,マルチガス高純度プラズマ源を開発したので報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマ源 ,  プラズマ生成 ,  熱プラズマ ,  誘導結合プラズマ ,  アルゴン ,  酸素 ,  混合気体 ,  ヘリウム ,  窒素 ,  二酸化炭素 ,  空気 ,  プラズマトーチ ,  フォトレジスト ,  *大気プラズマ ,  プラズマ
準シソーラス用語： 亜酸化窒素 ,  *大気圧プラズマ

分類 (1件)： プラズマ装置  (BJ02082I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 大気圧 ,  マルチ ,  高純度 ,  プラズマ源 ,  開発 ,  応用