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J-GLOBAL ID：200902266500287782   整理番号：03A0300529

ZnO/LiGaO₂/GaNヘテロ構造の作製

著者 (9件)： 福崎正志 (東北大 金属材料研) ,  西井潤弥 (東北大 金属材料研) ,  塚崎敦 (東北大 金属材料研) ,  大友明 (東北大 金属材料研) ,  福村知昭 (東北大 金属材料研) ,  大西剛 (東大 物性研) ,  角谷正友 (静大 工) ,  大野英男 (東北大 通研) ,  川崎雅司 (物・材機構)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 50th  号： 1  ページ： 339  発行年： 2003年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： ZnO ,  GaN ,  ヘテロ構造 ,  作製