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J-GLOBAL ID：200902269346740842   整理番号：07A0525767

真空紫外光酸化を利用した高分子ゲル表面へのアゾベンゼン基の導入

著者 (5件)： 青島ほずみ (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  永野修作 (JST-CREST) ,  関隆広 (名大 院) ,  関隆広 (JST-CREST)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 87th  号： 1  ページ： 282  発行年： 2007年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： メトキシオリゴエチレングリコールモノメタクリレートの重合体を...

シソーラス用語： *ヒドロゲル ,...
準シソーラス用語： ハイドロゲル

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分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (1件)： アゾベンゼン

タイトルに関連する用語 (3件)： 光酸化 ,  高分子ゲル ,  アゾベンゼン