文献

J-GLOBAL ID：200902272612042634   整理番号：06A0047982

同軸二重ノズル型電極を用いたZピンチプラズマからのEUV放射特性

Characteristics of EUV radiation from Z-pinch plasma using coaxial double nozzle electrode

著者 (9件)： 坂本敏郎 (東京工大) ,  SONG Inho (東京工大) ,  MOHANTY S.R. (東京工大) ,  小林靖典 (東京工大) ,  渡辺正人 (東京工大) ,  河村徹 (東京工大) ,  沖野晃俊 (東京工大) ,  堀岡一彦 (東京工大) ,  堀田栄喜 (東京工大)
資料名： 電気学会放電研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： ED-05  号： 143-150  ページ： 25-28  発行年： 2005年 
JST資料番号： Z0911A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次世代の半導体のリソグラフィー用光源として波長13.5nmの...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 同軸二重ノズル ,...

   このテーマを更に深掘りする（JDreamⅢへ）  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=06A0047982&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Z0911A") }}

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  プラズマ装置  (BJ02082I)

引用文献 (8件)：

• BANINE, V. Proceedings of SPIE. 2001, 4343, 203-214
• 堀田和明. リソグラフィ用EUV光源. レーザー研究. 2001, 29, 638-644
• 堀田栄喜. 放電生成プラズマ光源研究の現状. J. Plasma Fusion Res. 2003, 79, 3, 245-251
• SONG, I. H. Development of gas jet type Z-pinch extreme ultraviolet light source for next generation lithography. NIFS-PROC-61 New Aspects of High Energy Density Plasma, 2005. 2005, 23-29
• 本間友祐. Zピンチ型EUV光源の高出力低デブリ化に関する研究. 東京工業大学修士論文. 2005

タイトルに関連する用語 (6件)： 同軸 ,  二重ノズル ,  Zピンチ ,  プラズマ ,  EUV ,  放射特性