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J-GLOBAL ID：200902274516987108   整理番号：07A1202690

レーザーアシストを用いたEUV放電光源の開発

Development of Discharge EUV Light Source Assisted by Laser

著者 (7件)： 山田淳三郎 (東京工大) ,  岸望 (東京工大) ,  渡辺正人 (東京工大) ,  沖野晃俊 (東京工大) ,  河村徹 (東京工大) ,  堀岡一彦 (東京工大) ,  堀田栄喜 (東京工大)
資料名： 電気学会パルスパワー研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PPT-07  号： 38-47  ページ： 29-33  発行年： 2007年11月26日 
JST資料番号： L4030A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光リソグラフィ用のパルス放電を利用した極端紫外(EUV)光源...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光源,照明器具  (NB12020F)

引用文献 (7件)：

• 村上勝彦, 岡崎信次:「EUVリソグラフィと露光装置」, J. PlaSma FUSion ReS., Vol.79, No.3(2003) pp. 221-225
• 堀田栄喜:「放電生成プラズマ光源研究の現状」, J.Plasma Fusion Res., Vol.79, No.3(2003) pp. 245-251
• 飯塚直哉:「ガスジェットZピンチプラズマを用いた半導体リソグラフィー用EUV光源の高出力化」, 東京工業大学修士論文 (2007) p. 8
• 小林靖典:「2段磁気パルス圧縮を用いたEUVリソグラフィ用パルスパワーシステムの開発」, 東京工業大学修士論文 (2006) pp. 40-43
• 堀田和明:「リソグラフィ用EUV光源」, レーザー研究, 29(2001)pp. 638-644

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザー ,  アシスト ,  EUV ,  放電 ,  開発