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J-GLOBAL ID：200902274842837264   整理番号：05A0373215

半導体リソグラフィ用EUV光源の光学的特性に関する研究

著者 (9件)： 岩田和宏 (東京工大) ,  本間友祐 (東京工大) ,  SONG In Ho (東京工大) ,  MASNAVI Majid (東京工大) ,  MOHANTY Smruti Ranjan (東京工大) ,  渡辺正人 (東京工大) ,  沖野晃俊 (東京工大) ,  安岡康一 (東京工大) ,  堀岡一彦 (東京工大)
資料名： 電気学会全国大会講演論文集  (Annual Meeting Record, I.E.E. Japan)
巻： 2005  号： 1  ページ： 244  発行年： 2005年03月17日 
JST資料番号： S0653A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  プラズマ装置  (BJ02082I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 半導体リソグラフィ ,  EUV光源 ,  光学的特性 ,  研究