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J-GLOBAL ID：200902277912734637   整理番号：07A0815090

ゾルゲル法を用いたリオトロピック液晶/シリカハイブリッド薄膜の作製と液晶構造の配向制御

著者 (4件)： 原光生 (名大 院) ,  溝下倫大 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本液晶学会討論会講演予稿集(CD-ROM)  (日本液晶学会オンライン研究発表会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 2006  ページ： PB01  発行年： 2006年09月01日 
JST資料番号： L3567B  ISSN： 1880-3490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ハイブリッド複合材料 ,...
準シソーラス用語： *シリカ

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分類 (1件)： その他の液晶  (BK03030H)

物質索引 (1件)： 2,3,6,7,10,11-ヘキサキス[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]トリフェニレン

タイトルに関連する用語 (6件)： ゾルゲル法 ,  リオトロピック液晶 ,  薄膜 ,  作製 ,  液晶 ,  配向制御