特許

J-GLOBAL ID：200903029715954099

超純水プラズマ泡による加工・洗浄方法及びその装置

発明者： 遠藤 勝義 ,  後藤 英和 ,  豊田 洋通 ,  野村 信福
出願人/特許権者： 遠藤 勝義
代理人 (3件)： 柳野 隆生 ,  森岡 則夫 ,  関口 久由
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2006324099
公開番号（公開出願番号）：WO2007-063987
出願日： 2006年12月01日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：

【課題】超純水中でプラズマを発生させ、このプラズマを利用して超清浄な環境下で被処理物の表面を加工し、あるいは洗浄することが可能な、全く新規な超純水プラズマ泡による加工・洗浄方法及びその装置を提供する。【解決手段】超純水中に超音波を照射して微細な気泡を発生させるとともに、該気泡に向けて高周波の電磁波を継続的且つ集中的に照射して気泡中にプラズマを発生させ、該プラズマ泡5、あるいはプラズマ消滅後の気泡又は気泡消滅後の活性ラジカルを超純水中に配置した被処理物6の表面7に供給して加工又は洗浄する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

超純水中に少なくとも高周波の電磁波を継続的且つ集中的に照射してプラズマ泡を発生させ、該プラズマ泡、あるいはプラズマ消滅後の気泡又は気泡消滅後の活性ラジカルを超純水中に配置した被処理物の表面に供給して加工又は洗浄することを特徴とする超純水プラズマ泡による加工・洗浄方法。

IPC (3件)：

H05H 1/24 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H05H1/24 ,  H01L21/306 J ,  H01L21/304 647Z

Fターム (21件)：

5F043AA02 ,  5F043AA25 ,  5F043BB02 ,  5F043BB17 ,  5F043DD30 ,  5F043EE06 ,  5F043EE40 ,  5F157AA28 ,  5F157BB22 ,  5F157BB64 ,  5F157BB73 ,  5F157BB75 ,  5F157BB79 ,  5F157BC41 ,  5F157BD33 ,  5F157BE12 ,  5F157BG58 ,  5F157BH15 ,  5F157CF90 ,  5F157DB03 ,  5F157DB45

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特許第3624238号公報
  
• 特許第3624239号公報
  
• 超純水中の水酸基による加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-212517   出願人：森勇藏
• 特許第3316461号公報