特許

J-GLOBAL ID：200903058110524246

プラズマ源、処理装置及び処理方法

発明者： 沖野 晃俊 ,  宮原 秀一 ,  堀田 栄喜 ,  鐘ヶ江 正巳
出願人/特許権者： 国立大学法人東京工業大学 ,  リバーベル株式会社
代理人 (3件)： 松山 允之 ,  池上 徹真 ,  須藤 章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-214332
公開番号（公開出願番号）：特開2008-041429
出願日： 2006年08月07日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：

【課題】プラズマを簡単に被処理物に作用できるプラズマ源を提供すること、又は、被処理物の材質に係わらずプラズマ処理ができる処理装置と処理方法を提供すること。【解決手段】面状のプラズマを発生するプラズマ発生装置と、プラズマを移動するプラズマ移動装置とを備えているプラズマ源、又は、プラズマ発生装置と被処理物保持部とを備えている処理装置、又は、面状のプラズマを発生し、プラズマを移動し、被処理物の表面をプラズマで処理する被処理物の処理方法にある。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

面状もしくは線状のプラズマを発生するプラズマ発生装置と、 プラズマを移動するプラズマ移動装置と、を備えている、プラズマ源。

IPC (2件)：

H05H 1/24 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H05H1/24 ,  H01L21/304 641

Fターム (10件)：

4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030CA17 ,  4K030GA04 ,  4K030GA06 ,  4K030KA15 ,  4K030KA19 ,  4K030KA30 ,  4K030KA32