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J-GLOBAL ID：201002210297593053   整理番号：10A0592723

ブロック共重合体水面膜のモルフォロジー制御とナノテンプレート材料への応用

著者 (6件)： 後藤勝昭 (名大 院) ,  衣松徹哉 (名大 院) ,  谷口大介 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  永野修作 (JST-さきがけ) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 59  号： 1 Disk1  ページ： ROMBUNNO.3PD100  発行年： 2010年05月11日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  高分子膜 ,  *ミセル ,  モルフォロジー ,  鋳型材料 ,  ナノ構造 ,  *Langmuir-Blodgett膜 ,  ポリスチレン ,  P4VP

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (5件)： ブロック共重合体 ,  水面 ,  モルフォロジー ,  ナノテンプレート ,  応用