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J-GLOBAL ID：201002215746854055   整理番号：10A1101943

PLD法を用いたエピタキシャルPb(Zr,Ti)O₃ナノロッド作製の検討

著者 (8件)： 田中秀典 (東京工大 大学院) ,  山田智明 (東京工大 大学院) ,  安井伸太郎 (東京工大 大学院) ,  山本孝 (防衛大) ,  西田謙 (防衛大) ,  飯島高志 (産業技術総合研) ,  篠崎和夫 (東京工大 大学院) ,  舟窪浩 (東京工大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 71st  ページ： ROMBUNNO.16P-NJ-4  発行年： 2010年08月30日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *レーザ蒸着 ,  エピタクシー ,  *ジルコニウム酸チタン酸鉛 ,  強誘電体 ,  *ナノロッド ,  Nd-YAGレーザ ,  基板 ,  結晶方位 ,  チタン酸ストロンチウム ,  酸化物 ,  ルテニウム化合物 ,  ストロンチウム化合物 ,  *パルスレーザ蒸着

分類 (1件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I)

タイトルに関連する用語 (8件)： PLD法 ,  エピタキシャル ,  Pb ,  Zr ,  Ti ,  O3 ,  ナノロッド ,  作製