研究者
J-GLOBAL ID:200901045849438982
更新日: 2024年04月05日
舟窪 浩
フナクボ ヒロシ | Funakubo Hiroshi
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所属機関・部署:
東京工業大学 物質理工学院
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職名:
教授
研究分野 (1件):
無機材料、物性
研究キーワード (1件):
CVD法による酸化物薄膜の合成とその特性
競争的資金等の研究課題 (36件):
2021 - 2024 窒化アルミニウム基エピタキシャル薄膜を用いた強誘電性サイズ効果の解明
2019 - 2023 分極/電荷蓄積融合型ハフニウム系不揮発性多値メモリの創製
2018 - 2021 エピタキシャル膜を用いた蛍石構造強誘電体の特性支配因子の解明
2018 - 2020 HfO2基強誘電体の圧電MEMS応用開拓
2014 - 2019 形状可変材料のドメインホモ界面ダイナミクスの学理究明と高機能化原理の確立
2016 - 2018 蛍石構造酸化物のアニオン制御による“直接特性制御型強誘電体”の創成
2016 - 2018 酸化ハフニウム基強誘電体極薄膜を用いた巨大電気熱量効果の発現
2015 - 2018 “基板のクランプ効果による可逆配向スイッチング機構”を用いた巨大圧電体膜の創成
2014 - 2016 蛍石構造を有する薄膜の強誘電性発現機構の解明と新規強誘電体物質群の創出
2014 - 2016 圧電素子と磁気抵抗変化素子の融合による超低消費電力磁化反転技術の創出
2014 - 2016 結晶の格子歪み制御によるMg2Siの熱電特性向上
2014 - 2016 新規シリサイド半導体の熱電物性の探索
2012 - 2015 正方晶ビスマスペロブスカイトを用いた鉛およびアルカリ金属フリーな新規圧電体の創製
2012 - 2015 ピエゾMEMSの信頼性確保を目指した圧電体膜の結晶構造およびドメイン構造評価
2012 - 2014 巨大正方晶歪みを有するビスマス強誘電体の電圧印加による4つの極状態の実現
2010 - 2012 in-situ ドメインコントロールによる強誘電体物性の制御
2010 - 2011 強誘電体-常誘電体“ナノオブリック構造"による巨大非線形応答材料の開発
2009 - 2011 高品質チタン酸ジルコン酸鉛単結晶膜の作製とその基礎特性解明
2008 - 2009 チタン酸ジルコン酸鉛単結晶モデル粒界を用いたナノドーパントの圧電制御機構の解明
2007 - 2008 半導体基板上非平衡系自己組織化によるエピタキシャル酸化物薄膜の創成
2007 - 2008 "サイズ効果フリー"誘電体の誘電特性におよぼす残留歪と温度の影響
2006 - 2007 Bi-Zn-Nb-0エピタキシャル膜のチューナビリティー機構解明
2006 - 2007 強誘電体薄膜分極スイッチング過程の時間分解その場X線構造解析
2005 - 2006 ナノドメインエンジニアリングによる巨大圧電特性膜の創製
2004 - 2005 Si上の光-電子融合デバイス集積を目指したβ-FeSi_2エピタキシャル薄膜合成
2004 - 2005 放射光を用いた逆格子空間直接観察によるナノ結晶体の迅速構造解析法の開発
2003 - 2004 ナノ構造をもつ層状強誘電体薄膜を用いた超高蜜度メモリの作製
2002 - 2003 環境低負荷な鉄とシリコンからなるベータ鉄シリサイド半導体を用いた太陽電池の検討
2000 - 2003 強誘電体薄膜の物性制御と次世代メモリデバイスへの応用
2001 - 2002 環境にやさしいBi_4Ti_3O_<12>系強誘電体膜の開発-鉛系材料からの転換を目指して-
2000 - 2001 パルスMOCVD法によるチタン酸ジルコン酸鉛薄膜の析出機構の解明
1999 - 2000 MOCVD法による応力誘起強誘電体薄膜合成法の開発
1998 - 2000 バリスタやPTCR特性セラミックス薄膜の成膜技術の確立と特性発現メカニズムの解明
1996 - 1996 in-situ伝導度測定による半導性ZnO薄膜成膜初期の成長機構の解明
1995 - 1996 粒界修飾によるBL型BaTiO_3薄膜キャパシタの高誘電率化とその機構の解明
1993 - 1994 窒化物-酸化物系セラミックスの高温での液相生成と液相焼結の機構解明-Y_2O_3添加AlN焼結体の液相生成と高熱伝導化処理にともなう物質移動
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論文 (444件):
Yuxian Hu, Rurika Kubota, Kazuki Okamoto, Takahisa Shiraishi, Hiroshi Funakubo. Orientation-Controlled 400 nm Thick Ferroelectric PbTiO<sub>3</sub> Films with Low Strain Directly Grown below the Curie Temperature by the Hydrothermal Method. Crystal Growth & Design. 2024
Tomohide Morikawa, Masanori Kodera, Takao Shimizu, Keisuke Ishihama, Yoshitaka Ehara, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Domain structures of PbTiO3 and Pb(Zr,Ti)O3 thin films controlled by tensile strain induced by a Sr(Zr,Ti)O3 buffer layer. Applied Physics Letters. 2024
Rurika Kubota, Yuxian Hu, Takahisa Shiraishi, Akinori Tateyama, Yoshiharu Ito, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo. Introduction of strain-relaxed 90° domain structure by lattice mismatch in tetragonal ferroelectric (Bi,K)TiO3 epitaxial films grown hydrothermally below Curie temperature. Journal of Applied Physics. 2023. 134. 23
Reika Ota, Shinnosuke Yasuoka, Ryoichi Mizutani, Takahisa Shiraishi, Kazuki Okamoto, Kuniyuki Kakushima, Tomoyuki Koganezawa, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Scalable ferroelectricity of 20 nm-thick (Al0.8Sc0.2)N thin films sandwiched between TiN electrodes. Journal of Applied Physics. 2023. 134. 21
Shinnosuke Yasuoka, Ryoichi Mizutani, Reika Ota, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Kazuki Okamoto, Masato Uehara, Hiroshi Yamada, Morito Akiyama, Hiroshi Funakubo. Invariant polarization switching kinetics in an (Al0.8Sc0.2)N film with frequency and temperature. Applied Physics Letters. 2023. 123. 20
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MISC (1,464件):
高橋良, 江原祥隆, 澤井眞也, 濱嵜容丞, 西田謙, 安井伸太郎, 白石貴久, 舟窪浩. MgO単結晶基板上にエピタキシャル成長させたBa(Zr,Ti)O
3
膜の結晶構造と温度安定性. 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(Web). 2022. 35th
高橋良, 江原祥隆, 浜嵜容丞, 澤井眞也, 安井伸太郎, 安岡慎之介, 舟窪浩, 西田謙. (100)MgO基板上に製膜したBa(Zr
x
Ti
1-x
)O
3
の結晶構造と誘電特性. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 83rd
三村和仙, 清水荘雄, 清水荘雄, 坂田修身, 坂田修身, 舟窪浩. HfO
2
基強誘電体の相転移における熱履歴. 日本物理学会講演概要集(CD-ROM). 2022. 77. 1
安岡慎之介, 水谷涼一, 大田怜佳, 白石貴久, 清水荘雄, 清水荘雄, 清水荘雄, 安井伸太郎, 江原祥隆, 西田謙, et al. 薄膜化による(Al,Sc)N膜の結晶異方性及び強誘電特性の向上. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
高橋良, 江原祥隆, 西田謙, 安井伸太郎, 白石貴久, 舟窪浩. MgO基板上に(100)配向したエピタキシャルBZT薄膜の結晶構造と電気的特性. 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(Web). 2021. 34th
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書籍 (30件):
Spontaneous Polarization and Crystal Orientation Control of MOCVD PZT and Bi4Ti3O12-Based Films
Springer, Ferroelectric Thin Films 2005
Site Engineering Concept of Ferroelectric Thin Films
Journal of Surface Science Society of Japan, HYOMEN KAGAKU 2005
Crystal Growth of b-FeSi2 Thin Film by CVD and Photoluminescence Properties
2005
Spontaneous Polarization and Crystal Orientation Control of MOCVD PZT and Bi4Ti3O12-Based Films
Springer, Ferroelectric Thin Films 2005
強誘電体薄膜におけるサイトエンジニアリングコンセプト
表面科学 2005
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講演・口頭発表等 (262件):
エピタキシャルKNbO3膜の水熱合成とアニールによる特性改善
(第48回セラミックス基礎科学討論会講演論文集 2010)
水熱合成法を用いたエピタキシャルKNbO3薄膜の方位制御
(第57回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 2010)
Geometric phase analysis of nano-strain field in oxide thin films
(22nd Fall Meeting of The Ceramic Society of Japan 2009)
水熱合成PZT多結晶膜を用いた小型超音波プローブの特性
(圧電材料・デバイスシンポジウム2009 2009)
水熱合成PZT多結晶膜による超小型超音波プローブの開発-超音波イメージングと分解能の検討-
(日音講論集 2009)
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学歴 (3件):
1988 - 1989 東京工業大学 大学院理工学研究科 無機材料工学専攻 博士後期課程
1986 - 1988 東京工業大学 大学院理工学研究科 無機材料工学専攻 修士課程
1982 - 1986 東京工業大学 工学部 無機材料工学科
学位 (1件):
博士(工学) (東京工業大学)
経歴 (8件):
2016 - 現在 東京工業大学 物質理工学院 材料系 教授
2013 - 現在 東京工業大学 元素戦略研究センター 兼務
2012 - 2016 東京工業大学 大学院総合理工学研究科 物質科学創造専攻 教授
2007 - 2012 独立行政法人 日本学術振興会 グローバルCOEプログラム 「材料イノベーションのための国際教育研究拠点」事業推進担当
2003 - 2007 独立行政法人 科学技術振興事業団 さきがけ研究21“ナノと物性” 研究員
2002 - 2007 独立行政法人 日本学術振興会 21世紀COEプログラム 「産業化をめざしたナノ材料開発と人材育成」事業推進担当
1997 - 2007 東京工業大学 大学院総合理工学研究科 物質科学創造専攻 助教授
1989 - 1997 東京工業大学 工学部 助手
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委員歴 (4件):
- 2018 MRS bulletin 編集委員
- 2015 J. Materionics 編集委員
- 2014 J. Appl. Dielectrics 編集委員
2007 - 2008 JJAP 編集委員
受賞 (12件):
2019 - 公益社団法人応用物理学会 第13回フェロー表彰 強誘電体の高品質薄膜作製と新規材料探索
2016 - 公益社団法人日本セラミックス協会 第1回フェロー表彰
2014 - 第39回日本セラミックス協会 学術写真賞 優秀賞 PbTiO3薄膜の90ドメイン交差に伴う格子変形
2011 - 第36回日本セラミックス協会 学術写真賞 優秀賞 エピタキシャルPbTiO3薄膜の圧電応答マッピング像
2010 - 第35回日本セラミックス協会 学術写真賞 特別賞 PbTiO3薄膜の90°ドメイン構造における原子変位の直視観察
2010 - 第35回日本セラミックス協会 学術写真賞 優秀賞 PbTiO3薄膜における90°ドメイン-転位間の弾性相互作用の視覚化
2008 - The American Ceramic Society Richard M. Fulrath Award
2008 - 公益社団法人日本セラミックス協会 学術賞 MOCVD法を用いた高品質誘電体薄膜の作製と物性に関する研究
2006 - Japan Journal of Applied Physics 編集貢献賞
2002 - 第1回東京工業大学挑戦的研究賞 環境適用型強誘電体の開発
2000 - 1st Asian Meeting of Electroceramics Poster Awards
1996 - 公益社団法人日本セラミックス協会 進歩賞 MOCVD法による酸化物誘電体薄膜の合成と性質に関する研究
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所属学会 (6件):
応用物理学会
, Materials Research Society
, 日本セラミックス協会
, The American Ceramic Society
, 日本材料学会
, 日本金属学会
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