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J-GLOBAL ID：201002284426422922   整理番号：10A1038287

大気圧プラズマソフトアブレーション法によるラジカルを用いた固体表面サンプリング

著者 (6件)： 岩井貴弘 (東京工大 大学院) ,  高橋勇一郎 (東京工大 大学院) ,  根岸祐多 (東京工大 大学院) ,  重田香織 (東京工大 大学院) ,  宮原秀一 (東京工大 大学院) ,  沖野晃俊 (東京工大 大学院)
資料名： 日本分析化学会年会講演要旨集  (分析化学講演要旨集)
巻： 59th  ページ： 403  発行年： 2010年09月01日 
JST資料番号： G0563B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 大気中 ,  *試料採取 ,  付着物 ,  非破壊分析 ,  水素化物 ,  表面 ,  *アブレーション ,  *表面分析 ,  ラジカル ,  アンチモン ,  セレン ,  ナトリウム ,  分光分析 ,  質量分析 ,  固体表面 ,  *大気プラズマ溶射

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  物理分析一般  (CC03011F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 大気圧プラズマ ,  ソフト ,  アブレーション法 ,  ラジカル ,  固体表面 ,  サンプリング