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J-GLOBAL ID：201102222448689495   整理番号：11A0795971

ノボラック系ポジ型レジストにおける現像特性のプリベーク温度依存性

著者 (7件)： 石黒啓太 (金沢工大) ,  河野昭彦 (金沢工大) ,  関口淳 (リソテックジャパン) ,  谷口克人 (AZエレクトロニックマテリアルズ) ,  田中初幸 (AZエレクトロニックマテリアルズ) ,  堀邊英夫 (金沢工大) ,  堀邊英夫 (大阪大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 58th  ページ： ROMBUNNO.24P-BJ-12  発行年： 2011年03月09日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ノボラックエポキシ樹脂 ,  レジスト ,  回路パターン形成 ,  現像 ,  *温度依存性 ,  *熱処理
準シソーラス用語： プリベーク ,  *ポジ型レジスト

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： ノボラック ,  ポジ型レジスト ,  現像 ,  プリベーク ,  温度依存性