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J-GLOBAL ID：201102248516153824   整理番号：11A0908062

ポリ(メチルメタクリレート)と液晶性ポリアゾベンゼンメタクリレートからなるブロック共重合体の液晶構造とモルフォロジーの光応答性

著者 (4件)： 二村佑樹 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  永野修作 (JST-さきがけ) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 91st  号： 3  ページ： 899  発行年： 2011年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリ(メチルメタクリレート)とポリアゾベンゼンメタクリレートからなるブロック共重合体(PMMA-b-P5Az10MA)を二段階の原子移動ラジカル重合法により合成した。PMMA-b-P5Az10MAの膜厚の異なるスピンキャスト膜を調製し,表面モルフォロジーをAFMにより観察し,アゾベンゼンブロックの液晶構造の配向状態を斜入射小角X線散乱測定により解析した。また,これらの膜に偏光可視光を照射することで,モルフォロジーと液晶構造の配向の偏光応答性を評価した。(著者抄録)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  *ポリメタクリル酸エステル ,  *高分子液晶 ,  モルフォロジー ,  光応答性高分子 ,  原子移動ラジカル重合 ,  スピンコーティング ,  高分子薄膜 ,  原子間力顕微鏡 ,  小角X線散乱 ,  偏光性 ,  *ミクロ相分離 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  化学合成 ,  分子構造 ,  光配向 ,  アゾベンゼン類
準シソーラス用語： アゾベンゼン誘導体

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  共重合  (CG04030D) ,  芳香族単環ヒドロキシルアミン及びヒドラジンその他の芳香族単環多窒素直結化合物  (CF05060O)

タイトルに関連する用語 (5件)： メチルメタクリレート ,  液晶 ,  ブロック共重合体 ,  モルフォロジー ,  光応答