抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ブロックコポリマーをナノリソグラフィー,高密度記録媒体,フォトニック結晶や導波路などへの応用する研究が盛んに行われており,近年,その薄膜のミクロ相分離構造を配列,配向する制御手法の開発が望まれている。最近,われわれは光応答性液晶ブロックコポリマー薄膜を用いたミクロ相分離構造の光配向制御およびパターニング手法を提案している。従来,ミクロ相分離構造の配向制御やパターニングは,リソグラフィーによる化学組成の異なる表面や凹凸構造を微細加工したナノパターン基板を用いて行われていた。光配向制御手法は,このような基板の表面の加工を必要としないため,フレキシブルでリライタブルな新たな配向制御手法として期待されている。本稿では,そのミクロ相分離造の光配向制御について,筆者らの研究を中心に解説する。(著者抄録)