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J-GLOBAL ID：201102278906046278   整理番号：11A1491437

液晶性超分子ブロック共重合体薄膜を鋳型としたナノ高分子構造構築

著者 (4件)： 西見昭雄 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  永野修作 (JST-さきがけ) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 72nd  ページ： ROMBUNNO.30A-ZQ-3  発行年： 2011年08月16日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 高分子液晶 ,  超分子 ,  *ブロック共重合体 ,  ナノ複合材料 ,  鋳型反応 ,  *ポリスチレン ,  *ポリビニルピリジン ,  高分子膜
準シソーラス用語： 液晶性ポリマ

分類 (2件)： 高分子材料一般  (YH07010B) ,  分子化合物  (CE02000C)

タイトルに関連する用語 (7件)： 液晶 ,  超分子 ,  ブロック共重合体 ,  薄膜 ,  鋳型 ,  高分子構造 ,  構築