文献

J-GLOBAL ID：201102281192020882   整理番号：11A1490045

水熱合成法によるエピタキシャル(K_xNa_1-x)NbO₃膜の組成依存性

著者 (10件)： 白石貴久 (東京工大) ,  榮西弘 (東京工大) ,  石河睦生 (東京工大) ,  石河睦生 (桐蔭横浜大) ,  安井伸太郎 (東京工大) ,  長谷川智仁 (東京工大) ,  黒澤実 (東京工大) ,  内田寛 (上智大) ,  坂下幸雄 (富士フイルム) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 72nd  ページ： ROMBUNNO.1P-C-10  発行年： 2011年08月16日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *水熱合成 ,  エピタクシー ,  誘電体薄膜 ,  カリウム化合物 ,  ナトリウム化合物 ,  ニオブ酸塩 ,  X線回折 ,  膜厚 ,  面間隔 ,  *圧電体 ,  組成依存性 ,  *ニオブ酸ナトリウムカリウム
準シソーラス用語： *ニオブ酸カリウムナトリウム ,  無鉛材料

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  圧電気,焦電気,エレクトレット  (BM05040M)

タイトルに関連する用語 (3件)： 水熱合成法 ,  エピタキシャル ,  組成依存性