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J-GLOBAL ID：201102296225066155   整理番号：11A0161363

ミクロ相分離構造の光配向

著者 (2件)： 永野修作 (名大 院) ,  永野修作 (JST-さきがけ)
資料名： 中部化学関係学協会支部連合秋季大会講演予稿集
巻： 41st  ページ： 37  発行年： 2010年11月06日 
JST資料番号： L0502A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *分子構造 ,  *ミクロ相分離 ,  *分子配向 ,  ポリエチレンオキシド ,  *ジブロック共重合体 ,  ポリスチレン ,  *高分子液晶 ,  高分子薄膜 ,  直線偏光 ,  ポリメタクリル酸ブチル ,  パターン形成 ,  スメクチック相 ,  小角X線散乱 ,  シンクロトロン放射 ,  光制御 ,  芳香族化合物 ,  アゾ化合物 ,  *ミクロ相分離構造 ,  *光配向 ,  配向制御 ,  ミクロパターン形成
準シソーラス用語： 微細パターン形成

分類 (3件)： 共重合  (CG04030D) ,  液晶一般  (BK03010L) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： アゾベンゼン

タイトルに関連する用語 (2件)： ミクロ相分離構造 ,  光配向