特許

J-GLOBAL ID：201103085777764950

2次元フォトニック結晶光デバイスの製造方法

発明者： 佐藤 明伸 ,  鈴木 晃子 ,  ブーレル エマニュエル ,  松尾 二郎 ,  瀬木 利夫 ,  青木 学聡
出願人/特許権者： 日本航空電子工業株式会社
代理人 (4件)： 中尾 直樹 ,  中村 幸雄 ,  草野 卓 ,  稲垣 稔
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-295054
公開番号（公開出願番号）：特開2005-062664
特許番号：特許第4113478号
出願日： 2003年08月19日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 光透過性基板の表面に屈折率の低い空孔或いは屈折率の高い柱を2次元的にマトリクス状に周期配列形成した2次元フォトニック結晶光デバイスの製造方法において、 空孔或いは柱を光透過性基板の表面に反応性ガスクラスターイオンビームと非反応性ガスクラスターイオンビームとを交互に照射してエッチング形成することを特徴とする2次元フォトニック結晶光デバイスの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/12 ( 200 6.01) ,  G02B 6/13 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ナノ構造薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-173822   出願人：日本電信電話株式会社
• ドライエツチング方法及びそのための装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-260376   出願人：株式会社東芝