特許
J-GLOBAL ID:201103087797190669

プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置ならびにプラズマ処理された処理対象物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝 ,  鈴木 健之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-092227
公開番号(公開出願番号):特開2011-222404
出願日: 2010年04月13日
公開日(公表日): 2011年11月04日
要約:
【課題】 少なくとも一部に通気性を有する処理対象物の当該通気性部分の内部にまでプラズマ処理を施すことができるとともに、コストを削減することができ、さらには、あらゆる処理対象物に対して様々なプラズマ処理を簡便に行うことが可能なプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置ならびにプラズマ処理された処理対象物を提供すること。【解決手段】 少なくともその一部が通気性を有する処理対象物1の内部にプラズマを透過させることにより所定のプラズマ処理を施すためのプラズマ処理装置2であって、プラズマを生成するプラズマ生成手段3と、前記プラズマを前記処理対象物1の内部に透過させるプラズマ透過手段とを備えることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
少なくともその一部が通気性を有する処理対象物の内部にプラズマを透過させることにより所定のプラズマ処理を施すことを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (4件):
H05H 1/24 ,  B01J 19/08 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/50
FI (4件):
H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  H05H1/46 M ,  C23C16/50
Fターム (21件):
4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BB10 ,  4G075CA05 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075FC01 ,  4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030FA01 ,  4K030FA03 ,  4K030KA08 ,  4L031AB01 ,  4L031AB31 ,  4L031CB05 ,  4L031DA00 ,  4L031DA08 ,  4L031DA12
引用特許:
審査官引用 (8件)
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