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J-GLOBAL ID：201202215512441614   整理番号：12A0101058

LADPP EUV源で減衰プラズマの電子温度及び密度の推定

Estimation of electron temperature and density of the decay plasma in a LADPP EUV source

著者 (8件)： ZHU Qiushi (Tokyo Inst. Technol.) ,  MUTO Takahiro (Tokyo Inst. Technol.) ,  YAMADA Junzaburo (Tokyo Inst. Technol.) ,  KISHI Nozomu (Tokyo Inst. Technol.) ,  WATANABE Masato (Tokyo Inst. Technol.) ,  OKINO Akitoshi (Tokyo Inst. Technol.) ,  HORIOKA Kazuhiko (Tokyo Inst. Technol.) ,  HOTTA Eiki (Tokyo Inst. Technol.)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-11  号： 71-90  ページ： 15-20  発行年： 2011年12月15日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スズ燃料装荷レーザ支援放電生成プラズマ(LADPPまたはLPD)13.5nmEUV源でのプラズマ減衰挙動及び電気的回復過程を実験するため,交差Stark法を開発した。最大爆縮後の50~900nsで,膨張プラズマの空間分解進展電子温度T_e及び密度n_eを得た。Zピンチ軸に沿った異なるn_e減衰特性によって,陰極及び陽極の電極の間のプラズマシェルで電子の膨張速度を~1.2×10⁴m/sと推定した。n_eの減衰時間定数の測定結果は183±24nsであった。プラズマ断熱膨張及び電子衝突イオン化の理論に基づいて,継続して規則的にEUV放出放電を行うことができるような電極間の電気的回復のための最小時間スパンは70μsと推定した。それゆえLADPP EUV源の最大反復率はほぼ14kHzであった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *光源 ,  Zピンチ ,  爆縮 ,  電子温度 ,  電子密度 ,  プラズマ密度 ,  プラズマ分光 ,  Stark効果 ,  スペクトル線広がり ,  真空アーク ,  プラズマ膨張 ,  減衰時間 ,  *EUV光源 ,  放電プラズマ
準シソーラス用語： LADPP/LDP ,  レーザ支援放電プラズマ ,  減衰プラズマ ,  時間定数 ,  爆縮プラズマ ,  膨張プラズマ ,  膨張速度 ,  回復時間

分類 (1件)： 光源,照明器具  (NB12020F)

引用文献 (19件)：

• (1) B. Wu and A. Kumar, "Extreme Ultraviolet Lithography", McGraw-Hill, New York, (2009)
• (2) V. Bakshi, "EUV source for lithography", SPIE, Washington, (2006)
• (3) G. Vandentop, Proc. 7th Annual SEMATECH Symposium and ISMI Regional Meeting Series in Japan, Tokyo, Japan (2011)
• (4) E. Hotta, N. Kishi, J. Yamada, Q. Zhu, T. Hosokai, M. Watanabe, and A. Okino: presented at Int. Symp. Extreme Ultraviolet Lithography (2008)
• (5) H. Griem, "Spectral Line Broadening by Plasmas", Academic, London (1974)

タイトルに関連する用語 (6件)： EUV ,  減衰 ,  プラズマ ,  電子温度 ,  密度 ,  推定