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J-GLOBAL ID：201202224791723160   整理番号：12A1437196

シリコンインクを用いたシリコン量子ドット薄膜の作製

著者 (6件)： 山田陸 (東京工大) ,  GRESBACK Ryan (東京工大) ,  YI D (東京工大) ,  DOGAN Ilker (アイントホーヘン工科大) ,  岡崎健 (東京工大) ,  野崎智洋 (東京工大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.13P-E3-5  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *量子ドット ,  *プラズマ合成 ,  化学合成 ,  塩化ケイ素 ,  水素 ,  アルゴン ,  混合気体 ,  粒度分布 ,  *スピンコーティング ,  顕微鏡観察 ,  気相合成 ,  原子間力顕微鏡法 ,  半導体量子ドット ,  反応性プラズマ ,  容量結合プラズマ
準シソーラス用語： *シリコン量子ドット ,  粒径分布

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリコン ,  インク ,  量子ドット ,  薄膜 ,  作製