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J-GLOBAL ID：201202233882263390   整理番号：12A0641988

金ナノ粒子プラズモン共鳴励起に基づく高分子薄膜のサブ波長ナノホール加工

著者 (7件)： 村岡景太 (北大 大学院) ,  東海林竜也 (北大 大学院) ,  山田和志 (京都工繊大) ,  杉村博之 (京大 大学院) ,  喜多村昇 (北大 大学院) ,  坪井泰之 (北大 大学院) ,  坪井泰之 (JST-さきがけ)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 92nd  号： 2  ページ： 654  発行年： 2012年03月09日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナノスケールにおける固体材料のレーザー加工が注目を集めている。この際光の回折限界により,加工の空間分解能が制限されるという課題がある。我々は,金ナノ粒子を用いて回折限界よりも小さい(100nm以下)ナノホールを高分子薄膜上に形成することに成功した。本研究ではナノホール密度,大きさ,位置選択的な加工の制御方法の確立を目指した。さらに金ナノ粒子を用いた場合のナノホール形成挙動と比較するために,CNTを用いたナノホール作成も行った。(著者抄録)

シソーラス用語： ナノ粒子 ,  レーザ加工 ,  パルス ,  共鳴 ,  励起 ,  *細孔 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  限界 ,  *高分子薄膜 ,  *微細加工 ,  レーザアブレーション ,  *ナノホール ,  ナノ秒パルス ,  プラズモン励起 ,  回折限界 ,  金ナノ粒子 ,  多孔質膜
準シソーラス用語： プラズモン共鳴

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  アクリル樹脂  (YH07110K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 金ナノ粒子 ,  プラズモン共鳴 ,  励起 ,  高分子薄膜 ,  サブ波長 ,  ナノホール