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J-GLOBAL ID：201202249689207451   整理番号：12A0602300

ペロブスカイト型酸化物界面層を用いたBiFeO₃薄膜の一軸配向成長

著者 (6件)： 内田寛 (上智大 理工) ,  林真里 (上智大 理工) ,  笹嶋慶一 (上智大 理工) ,  峯村佳輝 (上智大 理工) ,  安井伸太郎 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  舟窪浩 (東京工大 大学院総合理工学研究科)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集
巻： 2012  ページ： 160  発行年： 2012年03月19日 
JST資料番号： X0505A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ペロブスカイト型結晶 ,  *ビスマス化合物 ,  *フェライト ,  鉄化合物 ,  優先配向 ,  *誘電体薄膜 ,  薄膜成長 ,  結晶方位 ,  ニッケル酸塩 ,  ランタン化合物 ,  カルシウム化合物 ,  ニオブ酸塩 ,  ニオブ酸カルシウム ,  ニッケル酸ランタン ,  *界面層 ,  ビスマスフェライト
準シソーラス用語： 鉄酸ビスマス

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： ペロブスカイト ,  酸化物 ,  界面層 ,  BiFeO3 ,  薄膜 ,  一軸配向 ,  成長