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J-GLOBAL ID：201202250208735466   整理番号：12A0587167

水熱合成エピタキシャル(K_0.5Na_0.5)NbO₃膜のアニール温度依存

著者 (8件)： 白石貴久 (東京工大) ,  石河睦生 (東京工大) ,  石河睦生 (桐蔭横浜大) ,  安井伸太郎 (東京工大) ,  黒澤実 (東京工大) ,  内田寛 (上智大) ,  平山泰生 (リガク) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 59th  ページ： ROMBUNNO.18A-F5-3  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 水熱合成 ,  エピタクシー ,  *ニオブ酸カリウム ,  ニオブ酸ナトリウム ,  薄膜 ,  *焼なまし ,  温度依存性 ,  固溶体 ,  X線回折

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 水熱合成 ,  エピタキシャル ,  アニール ,  温度依存