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J-GLOBAL ID：201202258122818076   整理番号：12A0587542

ノボラック系ポジ型レジストにおける現像温度とリソグラフィ特性との関係

著者 (7件)： 河野昭彦 (金沢工大) ,  齊藤誠二 (金沢工大) ,  石黒啓太 (金沢工大) ,  関口淳 (リソテックジャパン) ,  谷口克人 (AZエレクトロニックマテリアルズ) ,  田中初幸 (AZエレクトロニックマテリアルズ) ,  堀邊英夫 (金沢工大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 59th  ページ： ROMBUNNO.18P-A4-3  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ノボラック ,  *リソグラフィー ,  *現像 ,  *化学増幅レジスト ,  膜厚 ,  高感度 ,  回路パターン形成 ,  シミュレーション ,  スピンコーティング ,  露光 ,  分解能 ,  光増感剤
準シソーラス用語： ポジティブ型レジスト

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (4件)： ノボラック ,  ポジ型レジスト ,  現像 ,  リソグラフィ