文献

J-GLOBAL ID：201202268629575987   整理番号：12A1017111

基板界面におけるポリスチレンの局所立体配座と緩和

Local Conformation and Relaxation of Polystyrene at Substrate Interface

著者 (8件)： TSURUTA Hirofumi (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  FUJII Yoshihisa (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KAI Naoki (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KATAOKA Hiroshi (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ISHIZONE Takashi (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  DOI Masao (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MORITA Hiroshi (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  TANAKA Keiji (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 45  号： 11  ページ： 4643-4649  発行年： 2012年06月12日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 基板と樹脂フィルム界面のポリマー鎖の局所立体配座と緩和現象をSFG分光法で研究した。sec-BuLiとMeOHを開始剤とするアニオン重合で得たポリスチレン(PS,M_N54.5k)を石英基板上にスピンコートおよび溶液注型法で二種類のフィルムを調製,SFG分光で固液界面のPS分子鎖の配列を測定した。スピンコートの際のスピニングトルクが,分子鎖を配向させ,配向は界面からの距離により変化した。この種の分子鎖配向は溶液注型法では観察されなかった。界面における分子鎖配向はガラス転移点以上に加熱しても消失せず,バルクの分子鎖が完全に緩和されても界面分子鎖の緩和は殆ど生じないことが判明した。スピンコートの際のスピニングトルクによる分子鎖配向を散逸粒子動力学でシミュレーションした。

シソーラス用語： *ポリスチレン ,  界面 ,  構造 ,  *立体配座 ,  スペクトロスコピー ,  分子配向 ,  スピンコーティング ,  注型 ,  緩和現象 ,  動力学 ,  シミュレーション ,  局所構造 ,  和周波発生分光法
準シソーラス用語： SFG分光法 ,  散逸粒子動力学

分類 (2件)： ポリスチレン  (YH07120V) ,  分子の立体配置・配座  (BH05022J)

タイトルに関連する用語 (4件)： 界面 ,  ポリスチレン ,  立体配座 ,  緩和