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J-GLOBAL ID：201202279532578126   整理番号：12A0650286

アゾベンゼンポリマー薄膜を設けたシリコーンエラストマー表面のバックリング現象

著者 (4件)： LIAO Wan-yu (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  永野修作 (JST-さきがけ) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 92nd  号： 3  ページ： 890  発行年： 2012年03月09日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アゾベンゼンポリマーフィルムをポリジメチルポリシロキサンエラストマー上に転写したサンプルを調製し,圧縮応力を加えて生じたマイクロリンクルのバックリング波長より弾性率を算出した。光異性化によるバックリングへの効果も報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *座屈 ,  *高分子薄膜 ,  *ポリジメチルシロキサン ,  基板 ,  *波形 ,  光異性化 ,  Young率 ,  相転移 ,  *アゾベンゼン類
準シソーラス用語： シリコーンエラストマ ,  *バックリング【材力】 ,  *マイクロリンクル ,  液晶高分子

分類 (3件)： 高分子の物性一般  (CG02001Z) ,  光化学反応  (CB08020F) ,  液晶一般  (BK03010L)

タイトルに関連する用語 (5件)： アゾベンゼン ,  ポリマー薄膜 ,  シリコーンエラストマー ,  バックリング ,  現象