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J-GLOBAL ID：201202287303466481   整理番号：12A0884760

エラストマー基板上のアゾベンゼンポリマー薄膜における表面リンクルパターンの光応答

著者 (4件)： LIAO Wan-yu (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  永野修作 (JST-さきがけ) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 61  号： 1  ページ： ROMBUNNO.1PG067  発行年： 2012年05月15日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  アゾ化合物 ,  芳香族化合物 ,  光異性化 ,  波形 ,  皺 ,  ポリメタクリル酸エステル ,  シリコーンゴム ,  紫外線照射 ,  パターン形成 ,  *光応答性高分子 ,  トポグラフィー【形態】 ,  波長 ,  表面構造 ,  アゾベンゼン類 ,  構造
準シソーラス用語： アゾベンゼン誘導体 ,  *マイクロリンクル

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (1件)： メタクリル酸10-(4′-ペンチルアゾベンゼン-4-イルオキシ)デシル

タイトルに関連する用語 (4件)： エラストマー ,  アゾベンゼン ,  ポリマー薄膜 ,  光応答