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J-GLOBAL ID：201202294408913323   整理番号：12A0211908

ペロブスカイト型酸化物界面層を利用したBiFeO₃-Bi(Zn_1/2Ti_1/2)O₃固溶体薄膜の作製

著者 (4件)： 林真里 (上智大 理工) ,  安井伸太郎 (東工大 総理) ,  舟窪浩 (東工大 総理) ,  内田寛 (上智大 理工)
資料名： エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集  (エレクトロセラミックス研究討論会プログラム講演予稿集)
巻： 31st  ページ： 82  発行年： 2011年10月28日 
JST資料番号： L8356A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *エレクトロセラミック ,  *誘電体薄膜 ,  *薄膜成長 ,  強誘電体 ,  材料 ,  環境保全 ,  鉄酸塩 ,  チタン酸塩 ,  ビスマス化合物 ,  亜鉛化合物 ,  固溶体 ,  ペロブスカイト型結晶 ,  結晶構造 ,  誘電性 ,  溶液成長 ,  スピンコーティング ,  曲線 ,  残留分極 ,  ヒステリシスループ
準シソーラス用語： 鉛フリー材料 ,  化学溶液堆積法

分類 (1件)： 絶縁材料  (NA04030W)

タイトルに関連する用語 (9件)： ペロブスカイト ,  酸化物 ,  界面層 ,  BiFeO3 ,  Bi ,  O3 ,  固溶体 ,  薄膜 ,  作製