プラズマを用いた処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：中尾俊輔 , 伊藤高英 , 畑中芳実 , 大倉奈緒子 , 玉利房枝 , 鈴木健之
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2009067341
公開番号（公開出願番号）：WO2010-038894
出願日： 2009年10月05日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

【課題】プラズマを用いた基材の処理に関するもので、基材に容易に、高速に、種々の粒子状物質、多孔質物質、又は膜状物質を形成すること、又は、熱に弱い基材にもセラミックなどの粒子状物質、多孔質物質、又は膜状物質を形成することにある。【解決手段】基材10表面に付着した前駆物質12にプラズマを照射して、前駆物質12の一部構成物質を取り除く、プラズマを用いた処理方法において、基材10は、粒子状、糸状、又は、立体状であり、前駆物質12は、液体、気体、けん濁液、粉体、又は、基材に塗り込まれた固体であり、これらを、塗布、噴霧、転写、又は、印刷により基材10に付着する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材表面に付着した前駆物質にプラズマを照射して、前駆物質の一部構成物質を取り除く、プラズマを用いた処理方法。

IPC (9件)：

C23C 26/00 , C01B 13/14 , C01G 23/047 , C01B 33/12 , B01J 19/08 , B01J 19/12 , H01L 21/316 , H05K 3/08 , H05K 3/10

FI (10件)：

C23C26/00 Z , C01B13/14 Z , C01G23/047 , C01B33/12 C , B01J19/08 H , B01J19/08 K , B01J19/12 C , H01L21/316 P , H05K3/08 D , H05K3/10 C

Fターム (62件)：

4G042DA01 , 4G042DB16 , 4G042DD02 , 4G042DE06 , 4G042DE09 , 4G042DE14 , 4G047CA02 , 4G047CB05 , 4G047CB06 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G047CD07 , 4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072FF04 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072LL03 , 4G072LL05 , 4G072RR25 , 4G075AA24 , 4G075AA27 , 4G075AA30 , 4G075BA05 , 4G075BB10 , 4G075BD14 , 4G075CA33 , 4G075CA38 , 4G075CA39 , 4G075CA47 , 4G075CA51 , 4G075DA02 , 4K044AA06 , 4K044AB01 , 4K044AB02 , 4K044AB04 , 4K044BA12 , 4K044BA19 , 4K044BA21 , 4K044BB11 , 4K044BB13 , 4K044CA41 , 5E339AB05 , 5E339BE12 , 5E339DD10 , 5E343AA22 , 5E343BB24 , 5E343BB25 , 5E343DD68 , 5E343DD75 , 5E343EE46 , 5E343GG11 , 5E343GG20 , 5F058BA20 , 5F058BB05 , 5F058BB06 , 5F058BC02 , 5F058BC03 , 5F058BC09 , 5F058BF46 , 5F058BG10 , 5F058BH16

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