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J-GLOBAL ID:201302217418572950   整理番号:13A1577957

プラズマCVDによるシリコンナノ粒子合成:収率,粒径分布,結晶性の最適化

Plasma Synthesis of Silicon Nanoparticles: Optimization of Yield, Size Distribution, and Crystallinity
著者 (5件):
資料名:
巻: 79  号: 804  ページ: 1616-1623 (WEB ONLY)  発行年: 2013年 
JST資料番号: U0183A  ISSN: 1884-8346  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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プラズマCVDを用いた新しいナノ粒子合成法を開発し,四塩化ケイ素(SiCl4)を水素で還元することでサイズがそろったシリコンナノ粒子(Si NPs)を連続気相合成することに成功した。Si NPsの粒径と結晶性は反応時間(または総ガス流量)と消費電力により独立に制御できるが,Si NPsの収率はこれらの比で決まる比投入エネルギーによって統一的に整理されることを明らかにした。質量分析計によるガス分析ならびに反応器壁に形成される薄膜の解析から,収率は原料であるSiCl4の分解反応の促進および反応器内壁に形成される薄膜(Siのロス)のバランスによって決まることを明らかにし,最大で約50%のSi NPsの収率を得た。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (17件):

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