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J-GLOBAL ID：201302292894886060   整理番号：13A1723187

SrO/Si構造のアニール処理によって作製したSrSiO_x層の化学組成

著者 (12件)： 谷脇将太 (兵庫県大) ,  豊嶋祐樹 (兵庫県大) ,  堀田育志 (兵庫県大) ,  堀田育志 (JST-CREST) ,  吉田晴彦 (兵庫県大) ,  吉田晴彦 (JST-CREST) ,  新船幸二 (兵庫県大) ,  新船幸二 (JST-CREST) ,  小椋厚志 (明治大) ,  小椋厚志 (JST-CREST) ,  佐藤真一 (兵庫県大) ,  佐藤真一 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 74th  ページ： ROMBUNNO.19A-A4-4  発行年： 2013年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *焼なまし ,  *化学組成 ,  酸化物 ,  不動態化 ,  *ケイ酸ストロンチウム ,  X線光電子分光法 ,  改変
準シソーラス用語： アニール処理

分類 (1件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (5件)： SrO ,  Si ,  アニール処理 ,  作製 ,  化学組成