特許
J-GLOBAL ID：201303021764906964
触媒の選択酸化能の評価方法および高濃度水素含有ガスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-210158
公開番号（公開出願番号）：特開2008-039425
特許番号：特許第4820711号
出願日： 2006年08月01日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 水素および一酸化炭素を含有する原料ガスと、酸素含有ガスと、を触媒層に流通させて前記原料ガス中の一酸化炭素を選択酸化するに際し、前記触媒層の上流端から前記触媒層の所定の位置までの前記原料ガスの流れ方向の距離と該位置における一酸化炭素または酸素の濃度との相関を得、次いで、一酸化炭素および酸素のそれぞれについて、濃度の変化率としての微分値が極大値を与える消費ピーク位置を求め、得られた一酸化炭素の消費ピーク位置と酸素の消費ピーク位置との関係に基づいて前記触媒層の一酸化炭素の選択酸化能を評価することを特徴とする触媒の選択酸化能の評価方法。
IPC (5件)：
G01N 31/10 ( 200 6.01)
, C01B 3/38 ( 200 6.01)
, B01J 23/46 ( 200 6.01)
, G01N 31/00 ( 200 6.01)
, H01M 8/06 ( 200 6.01)
G01N 31/10
, C01B 3/38
, B01J 23/46 301 M
, G01N 31/00 E
, H01M 8/06 G
