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J-GLOBAL ID：201402210985007272   整理番号：14A0756794

液晶性アゾベンゼンポリマーの弾性率変化による表面微細リンクルパターンの光制御

著者 (4件)： 武島隆宏 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 94th  号： 3  ページ： 810  発行年： 2014年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 柔らかい基材に比較的固い薄膜を積層し,横方向から圧縮ひずみを加えると,座屈現象により表面リンクルが形成し,その波長は薄膜の膜厚や薄膜と基板の弾性率の比によって変化することが知られている。本研究では薄膜の弾性変調に焦点をあて,光異性化によって弾性率が変化する液晶性アゾベンゼン高分子を薄膜として用いた。PDMS基材に膜を張り付ける転写方法,また架橋剤を導入した光による基材上での薄膜重合法により,積層体を作製した。これら積層体を圧縮,伸張によりリンクルを誘起させたのち,紫外光を照射するとリンクルは波長,振幅の変化といった光応答をした。(著者抄録)

シソーラス用語： *高分子液晶 ,  *アゾ化合物 ,  *芳香族化合物 ,  *高分子薄膜 ,  *多層膜 ,  積層構造 ,  *皺 ,  *表面構造 ,  微細構造 ,  パターン形成 ,  *光制御 ,  弾性係数 ,  歪 ,  圧縮変形 ,  座屈 ,  膜厚 ,  基板 ,  光異性化 ,  ポリジメチルシロキサン ,  架橋剤 ,  延伸 ,  紫外線照射 ,  波長依存性 ,  光応答性高分子 ,  異性化 ,  異性体 ,  機械的強度 ,  表面粗さ ,  光重合 ,  可視光 ,  圧縮応力 ,  応力緩和 ,  分子運動 ,  顕微鏡観察 ,  *アゾベンゼン類 ,  圧縮歪 ,  振幅依存性 ,  可視光照射 ,  原子間力顕微鏡法 ,  *構造
準シソーラス用語： 積層膜 ,  リンクル ,  弾性率 ,  PDMS【重合体】 ,  表面凹凸 ,  原子間力顕微鏡観察

分類 (4件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  その他の液晶  (BK03030H) ,  芳香族単環ヒドロキシルアミン及びヒドラジンその他の芳香族単環多窒素直結化合物  (CF05060O) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (4件)： 液晶 ,  弾性率 ,  微細 ,  光制御