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J-GLOBAL ID：201402214455448460   整理番号：14A0982584

放電プラズマ照射による遺伝子導入用ラジカルの必要性

The Necessity of Radicals for Gene Transfection by Discharge Plasma Irradiation

著者 (7件)： JINNO Masafumi (Ehime Univ., Ehime, JPN) ,  IKEDA Yoshihisa (Ehime Univ., Ehime, JPN) ,  MOTOMURA Hideki (Ehime Univ., Ehime, JPN) ,  KIDO Yugo (Pearl Kogyo Co. Ltd., Osaka, JPN) ,  TACHIBANA Kunihide (Osaka Electro-Communication Univ., Osaka, JPN) ,  SATOH Susumu (Ehime Univ., Ehime, JPN) ,  SATOH Susumu (Y’s Corp., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 27  号： 3  ページ： 399-404  発行年： 2014年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 遺伝子導入に使用するミクロキャピラリー放電のパラメータ空間を研究した。それらが効果的になるいくつかの因子及び時間スケールを研究した。結論は,導入の半分はプラズマ照射中に起こり,他の半分はプラズマ照射が停止後起こった。プラズマ照射を停止した後,電場及び電流はゼロになった。その期間にラジカル種が導入に必要であると結論した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *遺伝子導入 ,  *プラズマ ,  空間 ,  プラズマ曝露 ,  ラジカル ,  規模 ,  電場 ,  停止 ,  *放電プラズマ
準シソーラス用語： パラメータ空間 ,  時間スケール

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (12件)：

• F.L. Graham, A.J. Van Der Eb, Virology, 52 (1973) 456.
• M. Wigler, A. Pellicer, S. Silverstein, R. Axel, Cell, 14 (1978) 725.
• P.L. Feigner, T.R. Gadek, M. Holm, R. Roman, H.W. Chan, M. Wenz, J.P. Northrop, G.M. Ringold, M. Danielsen, Proc. Nat. Acad. Sci. USA, 84 (1987) 7413.
• S. Miyoshi, A. Ohkubo, N. Morikawa, Y. Ogawa, S. Nishimura, M. Fukagawa, H. Arakawa, J. Zenkyo, S. Sato, Patent WO/2002/064767 (2002).
• Y. Ogawa, N. Morikawa, A. Ohkubo-Suzuki, S. Miyoshi, H. Awakawa, Y. Kita, S. Nishimura, Biotechnol. Bioeng. 92 (2005) 865.

タイトルに関連する用語 (3件)： 放電プラズマ ,  遺伝子導入 ,  ラジカル