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J-GLOBAL ID：201402214884108537   整理番号：14A0756793

光応答性液晶-液晶ジブロック共重合体薄膜における両メソゲンおよびミクロ相分離構造の光配向制御

著者 (4件)： 別府功一朗 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 94th  号： 3  ページ： 810  発行年： 2014年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年,ブロック共重合体が自己集合的に形成するミクロ相分離構造を工学的に利用するために,その配向を制御する手法が盛んに研究されている。当研究グループでは,側鎖に液晶性アゾベンゼンブロック(P5Az10MA)とアモルファスブロックからなるブロック共重合体を用い,そのアゾベンゼン液晶相の偏光応答を利用したミクロ相分離構造の光一軸配向を報告してきた。本報告では,P5Az10MAとポリ(シアノビフェニルメタクリレート)からなる両液晶ジブロック共重合体を合成し,ミクロ相分離構造および,ミクロ相分離内のそれぞれの液晶配向について,面内ならびに面外方向の光再配向挙動を検討した結果を報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *ジブロック共重合体 ,  *高分子薄膜 ,  *光応答性高分子 ,  メソゲン ,  ミクロ相分離 ,  *分子配向 ,  制御 ,  *アゾ化合物 ,  芳香族化合物 ,  非晶質 ,  側鎖 ,  偏光 ,  化学合成 ,  再配向 ,  *高分子液晶 ,  パターン形成 ,  ナノ構造 ,  自己集合 ,  原子移動ラジカル重合 ,  薄膜成長 ,  スピンコーティング ,  光照射 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  小角X線散乱 ,  すれすれ入射 ,  ホメオトロピック配列 ,  配向 ,  スメクチック相 ,  直線偏光 ,  二色性 ,  モルフォロジー ,  芳香族ニトリル ,  *光配向 ,  配向制御 ,  アゾベンゼン類 ,  非晶質高分子 ,  一軸配向 ,  斜入射小角X線散乱 ,  ランダム配向 ,  偏光スペクトル ,  ビフェニル化合物
準シソーラス用語： ナノパターン形成 ,  GISAXS ,  P5Az10MA ,  PCB6MA ,  ビフェニル誘導体

分類 (5件)： その他の液晶  (BK03030H) ,  高分子溶液の物理的性質  (CG02013S) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  芳香族単環ヒドロキシルアミン及びヒドラジンその他の芳香族単環多窒素直結化合物  (CF05060O) ,  芳香族単環ニトリル・イソシアニド  (CF05210D)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光応答 ,  液晶 ,  ジブロック共重合体 ,  薄膜 ,  メソゲン ,  ミクロ相分離構造 ,  光配向