文献

J-GLOBAL ID：201402223829622980   整理番号：14A0371889

NiとGe積層薄膜によって形成したNiGe膜のシート抵抗と熱処理温度の関係

著者 (9件)： 元木雅章 (東京工大 フロンティア創造共同研セ) ,  角嶋邦之 (東京工大) ,  片岡好則 (東京工大) ,  西山彰 (東京工大) ,  杉井信之 (東京工大) ,  若林整 (東京工大) ,  筒井一生 (東京工大) ,  名取研二 (東京工大 フロンティア創造共同研セ) ,  岩井洋 (東京工大 フロンティア創造共同研セ)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 61st  ページ： ROMBUNNO.19P-PG3-23  発行年： 2014年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ゲルマニウム ,  *ニッケル ,  *薄膜 ,  *シート抵抗 ,  熱処理 ,  温度依存性 ,  多層膜
準シソーラス用語： 界面制御

分類 (3件)： 薄膜一般  (BK14010X) ,  結晶成長一般  (BK13010Q) ,  電気物性一般  (BM03010R)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ni ,  Ge ,  薄膜 ,  シート抵抗 ,  熱処理温度