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J-GLOBAL ID：201402227513396607   整理番号：14A0161241

面内分極PbTiO₃エピタキシャル膜におけるドメイン構造の膜厚依存性

著者 (4件)： 中島崇明 (東京工大) ,  江原祥隆 (東京工大) ,  清水荘雄 (東京工大) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： セラミックス基礎科学討論会講演要旨集  (Preprints of the Symposium on Basic Science of Ceramics)
巻： 52nd  ページ： 62  発行年： 2014年01月09日 
JST資料番号： L1357A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  *誘電体薄膜 ,  *チタン酸鉛 ,  *MOCVD ,  基板 ,  タンタル酸カリウム ,  膜厚 ,  結晶構造 ,  格子定数 ,  温度依存性 ,  Curie温度 ,  格子歪 ,  エピタキシャル膜 ,  厚み依存性 ,  *ドメイン構造 ,  圧縮歪 ,  強誘電体薄膜
準シソーラス用語： 強誘電薄膜 ,  不整合歪

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 分極 ,  エピタキシャル膜 ,  ドメイン構造 ,  膜厚依存性