文献

J-GLOBAL ID：201402231933794400   整理番号：14A0361296

極性半導体BiTelにおける圧力誘起構造相転移

著者 (10件)： 大村彩子 (新潟大) ,  樋口雄一郎 (新潟大 大学院) ,  中山敦子 (新潟大) ,  藤久裕司 (産業技術総合研) ,  加納学 (東京工大 応用セラミックス研) ,  石川文洋 (新潟大 理) ,  山田裕 (新潟大 理) ,  中野智志 (物質・材料研究機構) ,  後藤義人 (産業技術総合研) ,  笹川崇男 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 69  号： 1 第3分冊  ページ： 581  発行年： 2014年03月05日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *半導体 ,  ビスマス化合物 ,  テルル化物 ,  ヨウ化物 ,  *相転移 ,  *X線回折 ,  絶縁材料 ,  絶縁体 ,  トポロジカル絶縁体 ,  *極性半導体 ,  圧力誘起相転移

分類 (2件)： 半導体結晶の電子構造  (BM02060N) ,  固相転移  (BL04020G)

タイトルに関連する用語 (3件)： 極性半導体 ,  誘起 ,  構造相転移