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J-GLOBAL ID：201402250086446241   整理番号：14A0720580

表面に偏析された液晶性ブロック鎖のポリマーブラシ構造形成

著者 (4件)： 向井孝次 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 63  号： 1  ページ： ROMBUNNO.1PF096  発行年： 2014年05月09日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリスチレン ,  *ポリメタクリル酸エステル ,  *アゾ化合物 ,  *スメクチック相 ,  *ジブロック共重合体 ,  高分子薄膜 ,  熱処理 ,  接触角 ,  表面エネルギー ,  可視吸収スペクトル ,  直線偏光 ,  *分子配向 ,  小角X線散乱 ,  *表面偏析 ,  ホメオトロピック配列 ,  二色性 ,  規則度 ,  配向 ,  液晶 ,  *高分子ブラシ ,  斜入射小角X線散乱
準シソーラス用語： ランダムプレーナ配列 ,  微小角入射小角X線散乱 ,  表面自由エネルギー

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  その他の液晶  (BK03030H)

物質索引 (1件)： メタクリル酸10-[(4′-ペンチルアゾベンゼン-4-イル)オキシ]デシル

タイトルに関連する用語 (4件)： 偏析 ,  液晶 ,  ポリマーブラシ ,  構造形成